热激光强气氛原子外延高真空生长平台-浙江大学-政府采购意向

标的名称：热激光强气氛原子外延高真空生长平台
数量/单位：1台
预算金额（元）：****点击查看000.00

采购目录：A****点击查看2499其他真空获得及应用设备

需实现的主要功能或者目标：系统，1套，原子级外延生长拓扑和高温超导氧化物薄膜材料、制备高质量的氧化物异质结构。该系统需包含超高真空主腔、副腔和预进样室，烘烤后背底真空优于9E-10 mbar；配备激光加热功能和差分高压反射高能电子衍射仪；装配高纯度臭氧发生装置等；

具体的主要技术指标包括：
1，进样室极限真空：烘烤后优于9x10-8mbar，分子泵抽速>85L/S，机械泵抽速>10m3/h；可同时停放12个旗型样品和12个1英寸圆形靶位；端口可接原位真空行李箱；配备可开启的透明观察窗门；
2，超高真空主腔：烘烤后优于9x10-10mbar，空间可容纳至少10个1英寸圆形靶位、旗型样品生长加热台、6个1千瓦红外热激光入视窗、2个脉冲激光入视窗、臭氧进气口、气体等离子体枪等;
3，旗型样品生长台:快速激光加热，加热功率大于200瓦，样品最高温度可达2000℃；最高温度下可持续加热 >2 h；控温精度：±0.5℃，最高升温速率： 300℃/s；配极速液氮降温系统，样品可降温至180K以下;样品台配备四轴 X、Y、Z及旋转轴电机
4，靶台：共10个1英寸圆形靶位；独立配备四轴 X、Y、Z及公转自转旋转轴电机；配置靶材的计算机化联锁控制靶材挡板，具备联锁控制功能，且挡板机构不占用或阻挡激光光路；
5，差分高压反射高能电子衍射仪RHEED：高氧压条件使用；基片—靶材距离：40～100 mm；
6，激光源：激发靶材；至少配置 2个1 kW红外激光源（可升级至6个）；和至少配置 1台脉冲激光器（可升级至2台），重复频率 ≥10 Hz、单脉冲能量 ≥700 mJ；8个激光入视窗：所有激光窗口均可在不破坏真空的情况下拆卸更换及清洁。
7，高氧化源：配置高纯度臭氧发生及近距离臭氧喷嘴系统，并配备 O等离子体源。
8，操作系统：配备电动样品台和电动靶台；靶台支持程序化X、Y方向扫描；软件具备温度实时反馈、PID温度控制及气压自动控制、激光安全保护等功能；

需满足的质量、服务、安全、时限等要求： 同上。；同上。； 同上。； 同上。。