等离子刻蚀工艺分析试验台-浙江大学-政府采购意向

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1、采购标的名称：等离子刻蚀工艺分析试验台 2、采购标的需实现的主要功能/目标： 支持针对等离子刻蚀机理探究、机理建模、虚拟量测、实时控制等智能工艺技术研发所需的全景实时原位工艺过程采集、分析需求自研。试验台为12英寸晶圆的集成机台布置，主要由等离子刻蚀工艺腔、真空传输腔、真空进片腔组成，其中真空传输腔预留2个工艺腔接口与2个分析腔接口，手工进片，真空内部由真空机械手输送；等离子刻蚀腔采用ICP机型，支持原子层刻蚀工艺，腔壁设有六个分析口，一个观察窗，机台气路、温度控制系统均受监督控制系统调控；射频源功率范围20w到3000w，13.56M，具有脉冲功能，脉冲频率在10-1000Hz，占空比在3-90%之间，切换的延迟时间控制在300us，具有超低功率的稳定输出能力；多区控温ESC，温度范围在0-140C，具有抗高功率的能力，背面冷却；12管主要气体，2管边缘调节气体，气体四区分开可控，多气体可替换，气体快速切换，MFC毫秒级高速切换。 3、采购标的数量：1台 4、采购标的需满足的质量、服务、安全、时限等要求 符合国家相关质量与安全标准，整机质保≥2年，核心部件（射频电源、真空泵）质保≥3年；供应商需提供现场安装、调试及工艺参数优化服务，针对操作人员及维护工程师开展不少于40小时的专项培训；提供技术支持，故障报修后48小时内到场维修，每年至少2次预防性维护服务；合同签订后≤90天完成交货，设备到货后≤40 个工作日完**装调试及验收。