高真空智能磁控离子溅射仪采购终止公告

是否接受进口

拒绝进口

品牌

无推荐品牌

型号

无推荐型号

技术规格及参数

一、技术参数
1、外形尺寸（主机） 424(L)×345(D)×420(H)
2、输入电源 220V/50Hz 1000W
3、溅射靶头 1：直流磁控溅射，可用靶材，所有金属靶材
4、溅射靶头 2：射频磁控溅射，可用靶材，无机非金属靶材
5、真空系统：进口涡轮分子泵+旋片式真空泵
6、抽速：90L/s + 1.1L/s
7、真空测量：复合式真空规
8、量程范围：1E-3 ~ 1E5Pa
9、可视化、可拆卸、可清洗真空室真空室：φ 200×130mm 高硼硅玻璃
10、抽气节拍：10 分钟（≤5E-3Pa），10分钟内优于5e-3Pa，具备电流保护和真空保护功能
11、样品台尺寸：φ 125mm
12、具备可旋转样品台，转速可调，最高转速不小于20转/分；
真空室内径不小于200mm，高度不低于125mm；
13、样品台切换：自动控制、自动旋转
14、溅射靶材尺寸：φ 57mm（厚度 0.1-2mm）
15、工作真空：0.1-2Pa
16、*操作界面：7 英寸 TFT 触摸式液晶屏，可实时显示靶材使用时间、设备工作时间和镀膜厚度；可用实时曲线显示溅射电流和真空度
17、操作语言：中文（可选其它语言）
18、冷水机：小型台式制冷机
19、冷水机功率：180W
20、预溅射挡板：标配全自动控制预溅射挡板，确保镀膜纯度，减少污染。
21、安装环境：220V/10A 三孔插座一个、纯度 4N 及以上的高纯氩气（出口压力 0.12MPa）
22、*内置不少于20种靶材溅射参数，包括金、铂、铬、钨、钛、铝、镍等常用靶材和ITO、AZO、PVDF、聚四氟乙烯、PZT等非金属氧化物靶材，可一键调用；
23、*分子泵转速可调：1-1200转/s，最高72000转/分钟
24、分子泵过热保护功能
25、膜厚测量：可实现 0.1-999nm 单次厚度设置，测量精度 0.1nm，显示精度 0.1nm
26、系统采用ARM9 芯片微处理器控制系统，全数字显示，可实时显示分子泵转速、功率、电流、轴承温度等工作参数
27、*氩气冲洗：可设置冲洗时间、冲洗次数、冲洗气量等参数调整，提高腔体洁净度、提升镀膜效果

质保期

质保一年，终生维护。

售后要求

1、产品属于厂家原装合格产品：卖方保证所提供的货物是全新的、未使用过的原装合格产品且是最新产品，并完全符合合同规定的质量、规格和性能要求。 2、提供免费首次上门安排调试培训服务，并承担由此产生的一切费用，终身维修。 与硬件无关的软件模块终身免费升级，硬件只需贴补差价，即可提供无障碍模块化升级服务。 3、可视化、可拆卸、可清洗真空室真空室可免费更换1次 4、溅射的电极可以免费试用挚盒RC测试系统测试一次 5、靶材固定器可免费更换1次